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在半導(dǎo)體制造過(guò)程中，光刻膠的去除是關(guān)鍵步驟之一。等離子去膠技術(shù)因其高效、環(huán)保和精確性被廣泛應(yīng)用于這一過(guò)程。然而為了進(jìn)一步提升生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量，優(yōu)化半導(dǎo)體等離子去膠機(jī)的去膠效率顯得尤為重要。1、優(yōu)化工藝參數(shù)等離子去膠的效率與多種工藝參數(shù)密切相關(guān)，包括射頻功率、反應(yīng)室壓力、氣體流量和類(lèi)型、處理時(shí)間等。通過(guò)實(shí)驗(yàn)優(yōu)化這些參數(shù)，可以找到適合特定光刻膠材料的去膠條件。例如：（1）射頻功率：適當(dāng)增加射頻功率可以提高等離子體密度，從而增強(qiáng)去膠效果。但過(guò)高的功率可能導(dǎo)致材料損傷或過(guò)度刻蝕。（...
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廣泛應(yīng)用于電子、平板電腦、手機(jī)、家電、汽車(chē)、鋼等行業(yè)的寬幅等離子清洗機(jī)是一種新興技術(shù)，它能夠更好地消除物料表面上的灰塵、污漬、油脂和污物，保持物料表面平整、光滑、干凈。結(jié)合了高壓等離子技術(shù)和傳統(tǒng)的蒸汽除銹技術(shù)，在實(shí)現(xiàn)高效地清潔表面的同時(shí)，能夠很好地保護(hù)物料表面，從而提高物料表面的加工質(zhì)量和維護(hù)壽命。寬幅等離子清洗機(jī)具有清潔效果好、操作安全、成本低、占地面積小等優(yōu)點(diǎn)，可以有效消除到表面銹垢、油脂、污物等，保持產(chǎn)品表面光滑，避免表面結(jié)節(jié)、氧化和炬腐等現(xiàn)象的發(fā)生，從而改善產(chǎn)品的外觀(guān)...
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